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2025年3月27日，上海——在全球半導(dǎo)體行業(yè)矚目的"國(guó)際集成電路展覽會(huì)暨研討會(huì)(IIC Shanghai 2025)"頒獎(jiǎng)盛典上，普冉股份榮膺"年度技術(shù)突破IC設(shè)計(jì)公司"！這是繼2024年榮獲"年度創(chuàng)新IC設(shè)計(jì)公司"后，再次登上領(lǐng)獎(jiǎng)臺(tái)。
普冉股份憑借多項(xiàng)核心技術(shù)突破與行業(yè)領(lǐng)先的創(chuàng)新能力，從全球頂尖IC設(shè)計(jì)企業(yè)中脫穎而出。這一殊榮不僅是對(duì)普冉技術(shù)實(shí)力的高度認(rèn)可，更彰顯了公司在半導(dǎo)體領(lǐng)域的競(jìng)爭(zhēng)力。
這一殊榮，是對(duì)普冉在集成電路領(lǐng)域持續(xù)深耕與技術(shù)突圍的有力印證。 通過(guò)工藝制程的突破性革新，公司已在產(chǎn)品可靠性、能耗控制與成本效益等維度打造了差異化競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，樹(shù)立了良好的品牌知名度。
普冉始終將技術(shù)突破視為企業(yè)發(fā)展的核心引擎。未來(lái)將持續(xù)加碼技術(shù)研發(fā)資源投入，攻堅(jiān)克難，致力于以更高性能、更具市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力的產(chǎn)品矩陣，賦能全球客戶智能化升級(jí)需求。
在IIC Shanghai 2025的獲獎(jiǎng)，既是對(duì)過(guò)往技術(shù)沉淀的褒獎(jiǎng)，亦是未來(lái)探索的號(hào)角。普冉將繼續(xù)深化自主技術(shù)壁壘，加速國(guó)產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程，為中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的高質(zhì)量發(fā)展注入澎湃動(dòng)能。
